2024年中国微公司的财务报告：收入为90.65亿元人

4月18日，中国微型半导体设备（上海）有限公司发行了2024年年度报告。该公司在2024年的营业收入约为90.65亿元人民币，比2023年增加了约280.2亿元人民币，同比增长约44.73％。其中，在2024年，蚀刻设备的销售约为72.7亿元人民币，同比增长约54.72％； MOCVD的设备销售约为3.79亿元人民币，年减少了约18.03％。 LPCVD设备在2024年达到了首次销售，全年设备的销量约为1.56亿元。 2024年，净利润与父母公司约16.16亿元人民币的人有关，比去年同期减少了9.53％。这一时期下降的主要Onesreason：（1）2024年的营业收入增长44.73％，与LA相比，毛利润增长了约9.78亿元圣年。 。 2024年，该公司的研发投资约为24.52亿元人民币，去年增长了11.9亿元人民币，同比增长了近94.31％。 2024年，该公司营业收入的研发投资比例约为27.05％，高于科学技术创新委员会的平均值。 2024年，研发成本为141.8亿元人民币，去年增加了近6.01亿元，同比增长了近73.59％。 。在2024年，与母公司的所有者减少了非股票收益和损失后，与母公司所有者相关的净利润约为13.88亿元人民币，去年同期增长了16.51％。这一时期增长的主要原因是：随着2024年的营业收入增加了44.73％，与去年相比，毛利润增长了约9.78亿元，而研发成本则增加了约6.01亿元。在报告期限，公司的总财产约为262.8亿元人民币，比报告期开始增加了21.80％；与母公司相关的所有者的权益约为197.3亿元人民币，比报告期开始增长了10.72％。在报告期间，该公司主要从事高端半导体设备和半导体设备的研究，开发和销售。该公司旨在将全球科学和技术的前进以及基于InduspemicDuctor的制造Sttill积累的专业技术多年，它一直参与了高设备齐全的设备领域，例如半导体集成电路制造，高级包装，LED外在芯片芯片生产，电力设备，MEMS，MEMS制造和其他微型流程。公司等离子体蚀刻设备已用于65至5纳米的国际前线客户和其他先进电路处理和劳动生产线以及高级包装生产线。公司的MOCVD设备已在行业领导者的生产线上批量生产，该公司已成为全球主要的氮化碳基于硝酸盐的LED设备的制造商。在过去的两年中，该公司已新开发的LPCVD电影设备和ALD电影设备，许多新设备产品进入了市场并收到了重复重复订单。 2024年，该公司的研发投资接近24.52亿元人民币，自去年以来增长了11.9亿元人民币，同比增长了近94.31％。该公司营业收入的研发投资比例约为27.05％，高于科学技术创新委员会上市公司的平均R＆D投资水平。在报告期间，该公司添加了359份新的专利申请，包括263家发明专利，84台公用事业模型专利和12次往来专利。直到2024年12月，该公司申请了2,910家专利，包括2,424家发明专利，提供83.30％； 1,781项授权专利，包括1,514家发明专利。在公司CCP蚀刻设备中，诸如双反应表Primo d-rie，Primo Ad-rie，Primo AD-RIE和单反应台Primo HD-Rie之类的产品被广泛用于主机和电极间隔内部客户线的生产线中，以输入高级逻辑线，以验证基本过程。 Ang Primo HD-RIEE, isang produktong solong reaksyon para sa mataas na katumpakan at mataas na ratio ng pagpili ng mga proseso ng etching, at primo ud-RIE, isang solong reaksyon na produkto para sa mataas na katumpakan at mataas na ratio ng mga proseso ng pag-etching ng ratio,在Ang Mga Primo ud-rie para sa mga超高aspeto na mga proseso ng pag-etcthing ng ng比率ay naihatid sa scale。在2024年，制作并发送了1,200多个反应单元，创造了很高的记录。梳子INED - 局限性容量超过4,000个反应单元，连续十年保持年平均复合增长率超过30％。现有的公司蚀刻产品构成了相对全面的CCP蚀刻应用，高于28纳米的大多数CCP蚀刻应用，并且大多数CCP应用在28纳米范围以下蚀刻。对于大马士革蚀刻的合并过程，该过程被广泛用于制造28纳米及以下的逻辑设备，CCP的CCP CCP蚀刻机是Primo SD-Rie开发的，它以调整后的电极间距进入了中国领先的逻辑芯片制造客户端。通过电气性能的初始验证，并进行了更多的设备操作测试。 Primo SD-Rie还进入了28纳米以下的研发线，并在许多基本的蚀刻过程中进行了现场研发工作。设备采用了双反应平台设计，可以有效地帮助客户减少其身体的生产在满足客户流程的指标时成本。 Primo SD-RIE具有实时可调电极间距函数，可以在同一蚀刻过程的不同步骤中使用不同的电极间距，并且可以轻松地调整等离子体浓度的分布并从根本上积极地进行积极的态度。该公司的许多创新技术可以有效地响应大马士革蚀刻过程的合并过程的独特要求，并有效地处理在实现最佳运河过程中可能出现的问题，并通过与相同的屈服过程相似的相似性，从而大大扩展了关节处理过程中的过程和能力。在报告期间，公司的配套设备涵盖了逻辑，鼓和3D NAN.D。 Kapower和Power的管理以及芯片和设备（例如微型电脑系统）是由50多个客户制造的质量制造的，并继续专业VE更多ICP蚀刻过程。 2024年，与客户一起安装的ICP蚀刻设备数量达到1,025个反应站，过去四年中平均年增长率超过100％。在报告期间，该公司的Prismo A7用于蓝光，Prism The 3用于深紫外线LED，而Prismo inimax用于迷你主导的显示器继续为客户提供服务。直到2024年，该公司一直在基于硝酸盐的国际MOCVD设备市场中保持领先地位。其中，自2021年6月的正式发行以来，该产品Unimax产品是该流的广泛认识的，这是由于其高输出，高长度，高收益，高收益等以及全球领先地位的迷你播放外观胶片制作设备的领先地位。该公司向领先的国内客户发送了Preciomo UDX，这是一种用于微型领导的应用程序的设备原型，以在2023年底进行生产验证。原型验证在报告和客户制造需求期间，疾病是顺利的。在快速开发电动车辆，电子消费者，人工智能，风能和训练能源能源和铁路运输的应用中，对硝酸盐和硅Carbaic设备的市场需求显示了爆炸式增长。该公司已经建立了氮化炮LED外延设备的好处，在此基础上，它通过基于氮化甲壳的特殊硅设备进一步开发。 2022年启动了用于氮化炮的PD5 MOCVD PRISM设备。它已交付给客户进行生产验证并重复重复订单。此外，该公司还开发了用于应用新一代硝酸盐设备的MOCVD设备，这将进一步提高设备的性能，降低客户人工成本并继续增强公司竞争在基于氮化岩的设备领域。预计将在2025年发送给客户进行验证。与此同时，该公司还开始开发用于Carbaic Power设备的外延制造设备。在报告期间，该公司将制定出色的技术开发，并取得巨大的结果。它与许多领先的客户进行业务谈判。在报告期间，该原型被发送给领先的国内客户进行生产验证。此外，该公司还延续了市场发展的过程，并积极扩大了MOCVD设备的应用；在报告期间，该公司启动了应用于红灯和黄色灯LED的MOCVD设备的形成。目前的开发相对平稳，最初的实验室结果已经达到了长度均匀性的出色性能。该公司在市场上开发了六种薄膜清除产品。中国微钨SeriES薄膜去除产品：CVD（化学蒸气沉积）钨设备，HAR（高深度）钨设备和ALD设备（原子层沉积）钨设备，可以涵盖所有存储器设备的能端应用；关键存储客户端字段已验证了该设备系列，以满足所有相关的金属应用程序，其中包括高级存储应用程序（包括高度比率金属互连）和三维存储器设备单词线条的性能指标的应用程序，并为客户恢复了重复的质量生产订单。同时，该公司的Tungsten系列产品还可以满足客户钨与客户的高级应用程序的性能要求。该机器已发送给许多逻辑客户进行验证，这为其他市场收益奠定了基础。同时，Kumpa开发了一系列用于高级逻辑的金属门产品设备：ALD硝酸钛，Ald钛铝和氮化钛​​产品。它已经完成了多个高级客户设备验证，可以满足高级逻辑客户的性能需求。同时，电影，污染物控制和设备生产效率的相似性已达到世界高级水平。该设备系列已发送给高级逻辑客户端进行验证，并且批准的进展正常。其中，ALD氮化钛膜也是钨填充层的主要选择，这些层充满了壁垒和高级记忆设备上的粘结层。该公司开发的ALD ALD氮化钛配备了配备的设备可以达到范围的步骤和各种卷烟的设备，这些设备表明了高级存储器设备的高方面和三维结构，并通过了许多主要存储客户的样本验证，这是令人愉快的，这是令人愉快的，这是令人愉快的，可以进一步扩大市场规模。基于中国微型公司的现有金属CVD和ALD设备的研究和开发同时促进了许多CVD和ALD设备的开发，从而增加了电影设备的范围并进一步扩展了市场。中国的子公司在使用分子筛子的吸附原理展示平板上开发并生产了气体清洁设备。设备可以根据客户要求轻松配置各种处理量表的系统，从而为客户提供可靠，稳定，安全和节省的解决方案，以清洁能源。此外，中国Weihui Chuang和德国DAS环境专家有限公司继续进行战略合作。双方在半导体行业的废气处理设备领域进行了密切合作。他们有大规模工作和制造清洁设备，并已成功地应用于各种客户，以共同努力促进Develo环境保护技术行业。 upang mas mas mahusay na mapabuti ang ang ng pang-industriya ng kumpanya ng kumpanya，karagdagang mapahusay ang scale ng kapasidad ng produksyon ng produksyon ng kumpya Lingang总部位于Sa Shanghai Lingang R＆D Center New地区，位于Nanchang高科技区的Itinayo Ang Zhongwei Nanchang工业化基地。 Nanchang将近140,000平方米的Componenthe和R＆D基地的生产于2023年7月完成并正式使用；在2024年8月，在上海lingang的主要建筑和在上海lingang的近180,000平方米的研发基地进行了正式使用；上海的首席 - 锡金和研发中心距离林格湖湖湖湖的湖泊中心也已成功建造，为将来的开发人员奠定了坚实的基础elopment。